我國首臺化學機械拋光設備
中國電子科技集團公司第48所近日成功研制出國內首臺具有自立知識產權的、適用于0.25μm器件特性尺寸、6英寸~8英寸晶圓片平坦化工藝要求的化學機械拋光設備。 該項目的研制成功,彌補了我國IC設備制造業(yè)0.25μm/6英寸~8英寸晶圓片平坦化設備的空白,對于實現(xiàn)我國微電子產業(yè)的跨越式發(fā)展,形成我國自立的知識產權,提拔我國集成電路的團體研發(fā)水平和產業(yè)核心競爭力及打破國外微電子尖端技術壟斷有著十分龐大的實際意義。 (信息來源:機械電子頻道子站) (作者:佚名編輯:浙江水暖閥門行業(yè)協(xié)會)
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